抓取结果

 等离子清洗机-等离子表面处理机-真空等离子清洗机-大气等离子清洗机-Plasma清洗机-等离子表面处理设备|方瑞科技 首页 服务领域 服务领域 始创2011年，专注于真空及常压等离子表面处理设备的研发、生产制造、市场销售以及技术推广 产品展示 等离子清洗机 等离子清洗机 在线式全自动真空等离子清洗机 功能强：改性作用仅发生在材料表面，不改变基体固有性能；适用广：不分处理对象的基材类型，如金属、塑料、玻璃、高分子材料等均可进行处理；易操作：工艺简单，操作方便，生产可控性强且稳定性高；节能、环保：用气成本低，全程干燥的处理方式，不消耗水资源、无需添加化学药剂、不产生污染。 PLC+触摸屏控制 50/60Hz AC220V(±10V) 查看所有产品 等离子刻蚀机与沉积设备 等离子刻蚀机与沉积设备 ICP等离子刻蚀机 PE-200(ICP) 电感耦合等离子刻蚀机在多个领域有着广泛的应用，主要包括有，在电子与通信技术领域可用于二氧化硅、应变硅、碳化硅、多晶硅栅结构、III-V族化合物等半导体材料的刻蚀，以及金属导线、金属焊垫等金属材料的刻蚀；在机械工程领域常用于硅材料的深槽刻蚀，以及MEMS（微机电系统）表面工艺中的浅硅刻蚀；除此之外，在纳米技... 查看所有产品 等离子体去胶机 等离子体去胶机 RIE等离子体去胶机 PD-200 RIE（反应离子刻蚀）等离子体去胶机是一种在半导体制造、微电子加工及相关科研领域中非常重要的设备。它利用反应离子刻蚀技术，通过物理轰击和化学反应的综合作用，能有效地去除光刻胶、残留聚合物以及其他有机物，并能进行一些材料的刻蚀和表面处理。 查看所有产品 等离子处理机 等离子处理机 DL-600在线往复式等离子表面处理机 可应用于液晶面板行业 STN/TFT/OLED/LTPS、触控面板、光电元件、PCB/FPC行业、太阳能行业、触控面板行业，以及电子元件封装贴合前清洁、 LED封装等等 DL-600 最大宽度560mm 氮化硅刻蚀AC220V(±10V) 查看所有产品 宽幅等离子处理机 宽幅等离子处理机 FR-L235线型等离子清洗机 小型等离子模组，可根据产品的规格定做，应用于各种材料表面清洁、活化等；不分处理对象的基材类型，如金属、塑料、玻璃、高分子材料等均可进行处理；可与生产线结合连续操作；成本低效率高，全程干燥处理不产生任何污染物； FR-L235 13.56MHz AC220V(±10V) 查看所有产品 USC干式超声波除尘清洗机 USC干式超声波除尘清洗机 USC干式超声波除尘清洗机 1、非接触式结构避免材料损伤。超声波可打破空气粘滞层，彻底清除极小颗粒（1.6um以上）的灰尘。2、从除尘单元吹出的气流得到充分的应用，控制了整个气流和真空，从而保证了持续的清除性能不受材料厚度的影响。3、高效的气流控制，一些低压气流也能得到应用，减小了损耗。4、闭环系统不会破坏生产车间（洁净室）的气流平衡。5、不需要高额的消... 查看所有产品 辅助配件 辅助配件 点胶机点胶平台 可应用于粘接、底部填充、定点灌封、表面贴装、检测试纸的喷涂、邦定、芯片固晶、封装倒扣、精密涂覆、定堆栈封装POP、密封等工艺点胶平台自主控制系统AC220V(±10V) 查看所有产品 产品应用 产品应用 始创2011年，专注于真空及常压等离子表面处理设备的研发、生产制造、市场销售以及技术推广 服务支持 服务支持 始创2011年，专注于真空及常压等离子表面处理设备的研发、生产制造、市场销售以及技术推广 制定方案 样品测试 考察接待 售后服务 新闻资讯 新闻资讯 始创2011年，专注于真空及常压等离子表面处理设备的研发、生产制造、市场销售以及技术推广 行业资讯 公司新闻 常见问题 关于我们 关于我们 始创2011年，专注于真空及常压等离子表面处理设备的研发、生产制造、市场销售以及技术推广 公司介绍 企业文化 联系我们 产品中心 等离子清洗机 等离子刻蚀机与沉积设备 等离子体去胶机 等离子处理机 宽幅等离子处理机 在线式全自动真空等离子清洗机 功能强：改性作用仅发生在材料表面，不改变基体固有性能；适用广：不分处理对象的基材类型，如金属、塑料、玻璃、高分子材料等均可进行处理；易操作：工艺简单，操作方便，生产可控性强且稳定性高；节能、环保：用气成本低，全程干燥的处理方式，不消耗水资源、无需添加化学药剂、不产生污染。 PLC+触摸屏控制 50/60Hz AC220V(±10V) 引线框架—在线等离子清洗机 功能强：改性作用仅发生在材料表面，不改变基体固有性能；适用广：不分处理对象的基材类型，如金属、塑料、玻璃、高分子材料等均可进行处理；易操作：工艺简单，操作方便，生产可控性强且稳定性高；节能、环保：用气成本低，全程干燥的处理方式，不消耗水资源、无需添加化学药剂、不产生污染。 LED支架处理 50Hz AC220V GD-5小型等离子清洗机 设备采用PLC+触摸屏控制，操作简单易维护，产品主要适用于小规模生产、科学实验；腔体材质采用316不锈钢、进口铝合金材质，耐腐蚀，腔体可以根据客户产品需求定制；进口针阀精密流量控制计，两路工艺反应气体通道；独特的电极结构，确保等离子体的均匀性； GD-5 40KHz/13.56MHz AC220V(±10V) GD-10小型实验室真空等离子清洗机 设备采用PLC+触摸屏控制，操作简单易维护，产品主要适用于小规模生产、科学实验；腔体材质采用不锈钢、进口铝合金材质，耐腐蚀，腔体可以根据客户产品需求定制；进口针阀精密流量控制计，两路工艺反应气体通道；独特的电极结构，确保等离子体的均匀性； GD-10 40KHz/13.56MHz AC220V(±10V) GD-10RF射频小型等离子清洗机 设备采用PLC+触摸屏控制，操作简单易维护，产品主要适用于小规模生产、科学实验；腔体材质采用316不锈钢、进口铝合金材质，耐腐蚀，腔体可以根据客户产品需求定制；进口针阀精密流量控制计，两路工艺反应气体通道；独特的电极结构，确保等离子体的均匀性； GD-10RF 13.56MHz AC220V(±10V) RD-10滚筒型真空等离子清洗机 滚筒式真空等离子清洗机，是一款真空反应仓可 360°旋转的清洗机，可用于企业小批量生产或各大院校科研使用。整机紧凑，性能稳定，处理效果均匀稳定，性价比高，真空反应仓可 360°旋转。广泛适用于粉末、颗粒状、及小型不规则产品。其特点真空仓体可360°无死角旋转处理，处理效率高、均匀性和稳定性良好，操作方便，高效稳定、适用于材料表清洗、活化、提高粘结力、附着力等工艺。 RD-10 40KHz AC220V(±10V) ICP等离子刻蚀机 PE-200(ICP) 电感耦合等离子刻蚀机在多个领域有着广泛的应用，主要包括有，在电子与通信技术领域可用于二氧化硅、应变硅、碳化硅、多晶硅栅结构、III-V族化合物等半导体材料的刻蚀，以及金属导线、金属焊垫等金属材料的刻蚀；在机械工程领域常用于硅材料的深槽刻蚀，以及MEMS（微机电系统）表面工艺中的浅硅刻蚀；除此之外，在纳米技术、生物技术、光学技术等领域也有潜在的应用价值。 ICP电感耦合等离子刻蚀机(单腔） FR-G200(ICP) 电感耦合等离子刻蚀机在多个领域有着广泛的应用，主要包括有，在电子与通信技术领域可用于二氧化硅、应变硅、碳化硅、多晶硅栅结构、III-V族化合物等半导体材料的刻蚀，以及金属导线、金属焊垫等金属材料的刻蚀；在机械工程领域常用于硅材料的深槽刻蚀，以及MEMS（微机电系统）表面工艺中的浅硅刻蚀；除此之外，在纳米技术、生物技术、光学技术等领域也有潜在的应用价值。 ICP电感耦合等离子刻蚀机（双腔） FR-G800(ICP) 电感耦合等离子刻蚀机在多个领域有着广泛的应用，主要包括有，在电子与通信技术领域可用于二氧化硅、应变硅、碳化硅、多晶硅栅结构、III-V族化合物等半导体材料的刻蚀，以及金属导线、金属焊垫等金属材料的刻蚀；在机械工程领域常用于硅材料的深槽刻蚀，以及MEMS（微机电系统）表面工艺中的浅硅刻蚀；除此之外，在纳米技术、生物技术、光学技术等领域也有潜在的应用价值。 RIE等离子刻蚀机 PE-200(RIE)反应离子刻蚀机是半导体工艺中的核心设备之一。在半导体制造工艺中，它利用等离子体能量对硅片进行精细加工，是制造微电子器件的关键步骤。反应离子刻蚀机具有高度的精度，可以在微观水平上创建极其复杂的图案。反应离子刻蚀机在半导体行业中的应用非常广泛。它不仅可以用于蚀刻半导体材料，如硅和磷等，还可以用于制造芯片和电路。此外，反应离子刻蚀机还在微电子、微机电系统（MEMS）和纳米技术应用制造等领域发挥着重要作用。 RIE刻蚀机 氮化硅刻蚀 氧化硅刻蚀 RIE反应离子刻蚀机（单腔） FR-G200(RIE)反应离子刻蚀机是半导体工艺中的核心设备之一。在半导体制造工艺中，它利用等离子体能量对硅片进行精细加工，是制造微电子器件的关键步骤。反应离子刻蚀机具有高度的精度，可以在微观水平上创建极其复杂的图案。反应离子刻蚀机在半导体行业中的应用非常广泛。它不仅可以用于蚀刻半导体材料，如硅和磷等，还可以用于制造芯片和电路。此外，反应离子刻蚀机还在微电子、微机电系统（MEMS）和纳米技术应用制造等领域发挥着重要作用。 RIE刻蚀机 氮化硅刻蚀 氧化硅刻蚀 RIE反应离子刻蚀机（双腔） FR-G800(RIE) 反应离子刻蚀机是半导体工艺中的核心设备之一。在半导体制造工艺中，它利用等离子体能量对硅片进行精细加工，是制造微电子器件的关键步骤。等离子刻蚀机具有高度的精度，可以在微观水平上创建极其复杂的图案。等离子体蚀刻机在半导体行业中的应用非常广泛。它不仅可以用于蚀刻半导体材料，如硅和磷等，还可以用于制造芯片和电路。此外，反应离子刻蚀机还在微电子、微机电系统(MEMS)和纳米技术应用制造等领域发挥着重要作用。RIE刻蚀机 -20℃-100℃ 2、3、4、6、8寸晶圆 RIE等离子体去胶机 PD-200 RIE（反应离子刻蚀）等离子体去胶机是一种在半导体制造、微电子加工及相关科研领域中非常重要的设备。它利用反应离子刻蚀技术，通过物理轰击和化学反应的综合作用，能有效地去除光刻胶、残留聚合物以及其他有机物，并能进行一些材料的刻蚀和表面处理。 ICP等离子体去胶机（单腔） PD-200 ICP等离子体去胶机是一种基于电感耦合等离子体技术的高端半导体制造设备，主要用于高效去除光刻胶、有机残留物及微纳米级污染物。在应用领域上，该设备广泛服务于半导体先进制程、先进封装、显示面板制造以及科研领域的微纳器件加工。凭借高效清洁能力、环保性和工艺灵活性，ICP等离子体去胶机已成为现代集成电路和微电子制造中不可或缺的核心装备，推动着高精度、高可靠性芯片技术的持续发展。 ICP等离子体去胶机 SD-300 ICP等离子体去胶机是一种基于电感耦合等离子体技术的高端半导体制造设备，主要用于高效去除光刻胶、有机残留物及微纳米级污染物。在应用领域上，该设备广泛服务于半导体先进制程、先进封装、显示面板制造以及科研领域的微纳器件加工。凭借高效清洁能力、环保性和工艺灵活性，ICP等离子体去胶机已成为现代集成电路和微电子制造中不可或缺的核心装备，推动着高精度、高可靠性芯片技术的持续发展。 等离子体去胶机 GD-20RF 等离子体去胶机是一种基于等离子体技术的干法去胶设备，其工作原理是通过在真空反应腔内通入工艺气体（如氧气、氩气或含氟气体），并施加高频电磁场使气体电离，形成高密度等离子体。在等离子体环境中，高能电子与气体分子碰撞产生大量活性粒子，包括氧自由基（O）、氟自由基（F）以及各种离子。这些活性粒子通过化学作用和物理轰击双重机制去除光刻胶：化学上，氧自由基与光刻胶中的碳氢化合物发生氧化反应，将其分解为CO2、H2O等挥发性小分子；物理上，高能离子通过溅射作用剥离顽固的有机残留物。通过精确控制工艺参数（如气体比例、射频功率、腔室压力和处理时间等），可以实现各向异性的去胶效果，即在垂直方向高效去除光刻胶的同时，最大程度减少横向刻蚀，保护底层精细结构不受损伤。这种干法工艺相比传统湿法去胶具有显著优势，不仅避免了强酸强碱等危险化学品的使用，而且处理温度通常控制在150℃以下，特别适合对温度敏感的先进器件制造。 DL-600在线往复式等离子表面处理机 可应用于液晶面板行业 STN/TFT/OLED/LTPS、触控面板、光电元件、PCB/FPC行业、太阳能行业、触控面板行业，以及电子元件封装贴合前清洁、 LED封装等等 DL-600 最大宽度560mm 氮化硅刻蚀AC220V(±10V) PM-V84大气等离子表面处理机 可与客户生产线联机实现自动化生产；可选配多重类型喷嘴，使用范围广泛；使用压缩空气或氮气；喷嘴采用无皮带式静音结构；采用低温等离子冷弧放电技术；安全环保不产生任何污染物； PM-V84 18-25KHz AC220V(±10V) PM-V83低温等离子表面处理机 可与客户生产线联机实现自动化生产；可选配多重类型喷嘴，使用范围广泛；使用压缩空气或氮气；喷嘴采用无皮带式静音结构；采用低温等离子冷弧放电技术；安全环保不产生任何污染物； PM-V83 18-25KHz AC220V(±10V) PM-V82等离子处理机 可与客户生产线联机实现自动化生产；可选配多重类型喷嘴，使用范围广泛；使用压缩空气或氮气；喷嘴采用无皮带式静音结构；采用低温等离子冷弧放电技术；安全环保不产生任何污染物； PM-V82 18-25KHz AC220V(±10V) PM-V8等离子表面处理机 可与客户生产线联机实现自动化生产；可选配多重类型喷嘴，使用范围广泛；使用压缩空气或氮气；喷嘴采用无皮带式静音结构；采用低温等离子冷弧放电技术；安全环保不产生任何污染物； PM-V8 18-25KHz AC220V(±10V) GM-5000等离子表面处理机 可与现场设备联机使用；喷嘴采用无皮带式静音结构；功率调节采用面板及远程模拟量控制、报警输出；可在线式使用或自动化控制； GM-5000 18-25KHz AC220V FR-L235线型等离子清洗机 小型等离子模组，可根据产品的规格定做，应用于各种材料表面清洁、活化等；不分处理对象的基材类型，如金属、塑料、玻璃、高分子材料等均可进行处理；可与生产线结合连续操作；成本低效率高，全程干燥处理不产生任何污染物； FR-L235 13.56MHz AC220V(±10V) PM-G16D氮气宽幅等离子表面处理机 PM-G16D 系列宽幅式等离子表面处理机广泛应用于电子、太阳能、汽车、包装印刷、生物医疗及通用行业，其特点为处理效率高、重复性和稳定性良好，操作方便，适用于不同材质的宽幅产品清洗去除产品表面污染物、活化、提高粘结力、附着力等工艺. PM-G16D 18-25KHz AC220V(±10V) 查看更多 产品应用 新能源行业 半导体行业 航空工业 印刷及喷码行业 3C数码行业 汽车行业 医疗行业 塑胶行业 家电行业 包装行业 服务领域 新能源 等离子清洗机在新能源行业领域中的应用广泛且重要。以下是一些主要的应用场景：电池制造：在新能源电池（如锂离子电池、燃料电池等）的制造过程中，等离子清洗机能够去除电池材料表面的污染物，如油脂、尘埃、有机溶剂残留等。这有助于改善电池的性能，如提高电池的容量、循环寿命和安全性。 了解详情 半导体 等离子清洗机在半导体行业领域中的应用非常广泛，主要体现在以下几个方面：封装材料清洗：在半导体封装过程中，芯片表面经常会沾染各种污渍，如氧化物等。等离子清洗机可用于清洗封装材料，如塑料、陶瓷等，去除表面的油污和杂质，提高封装材料的粘附性和可靠性，在芯片封装完成后。 了解详情 生物医疗 等离子清洗机在生物医疗领域中的应用十分广泛，其利用等离子体的特殊性质，能够实现对生物材料、医疗器械以及实验设备等的有效清洗和表面处理，从而提升这些物品的性能和安全性。以下是等离子清洗机在生物医疗领域中的一些主要应用。医疗器械清洗：等离子清洗机可用于清洗医疗器械，如手术器械、植入式医疗器械等，以去除器械表面的残留物、有机物、氧化物和杂质等。 了解详情 航天航空 等离子清洗机在航天航空领域的应用主要体现在材料表面处理、精密部件处理、复合材料处理以及环保与可持续性等方面。这些应用不仅提高了航空航天产品的性能和质量，还促进了行业的绿色发展和可持续发展。对于航空航天领域中的精密部件，如电连接器、传感器等，等离子清洗机可以在不损伤部件表面的前提下，有效去除污垢和杂质，并增强部件表面的活性，这有助于提高部件的耐压值、抗拉能力和耐腐蚀性。 了解详情 新闻资讯 方瑞真空等离子清洗机：应用场景与选型技巧 2026-01-08 等离子清洗机在不锈钢表面处理中的应用与优势 2025-04-25 PEEK与金属粘接遇难题？等离子清洗机来破局！ 2025-04-03 等离子清洗机是如何助力 PCB 电路板胶渣的完全去除？ 2025-03-22 等离子表面处理机在各行业的应用表现及优势特点 2025-03-15 服务领域 新能源 半导体 生物医疗 航天航空 产品展示 等离子清洗机 等离子刻蚀机与沉积设备 等离子体去胶机 等离子处理机 宽幅等离子处理机 产品应用 新能源行业 半导体行业 航空工业 印刷及喷码行业 3C数码行业 服务支持 制定方案 样品测试 考察接待 售后服务 新闻资讯 行业资讯 公司新闻 常见问题 关于我们 公司介绍 企业文化 联系我们 关注微信公众号 全国统一服务热线 0755-29434229 友情链接： 玻璃烘道 制药型冻干机 散热风扇 超声波清洗机 超声波清洗机 卷板加工线 等离子清洗机 法律声明 网站地图 Copyright © 2024 深圳市方瑞科技有限公司 All Rights Reserved. 粤ICP备19017536号-2

网站标题

等离子清洗机-等离子表面处理机-真空等离子清洗机-大气等离子清洗机-Plasma清洗机-等离子表面处理设备|方瑞科技

关键词

等离子清洗机、等离子表面处理机、等离子清洗设备、卷对卷等离子处理机、真空滚筒等离子清洗机、小型真空等离子处理机、在线等离子清洗机、直喷等离子处理机、等离子化学气相沉积设备、RIE反应离子刻蚀机、宽幅等离子处理机、等离子去胶机、真空等离子清洗机厂家、等离子处理机厂家、旋转等离子处理机厂家、常压等离子清洗机、低温等离子清洗机

站点描述

方瑞科技是一家专业生产销售等离子清洗机、等离子处理机、等离子清洗设备、卷对卷等离子处理机、真空滚筒等离子清洗机、小型真空等离子处理机、在线等离子清洗机、直喷等离子处理机、等离子化学气相沉积设备、RIE反应离子刻蚀机、宽幅等离子处理机、等离子去胶机、真空等离子清洗机厂家、等离子处理机厂家、旋转等离子处理机厂家、常压等离子清洗机、低温等离子清洗机的公司。其产品广泛应用于新能源半导体航空印刷及喷码3C数码医疗、汽车塑胶等部件的表面清洗等